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硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱用在芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP”藥液并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。

前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經(jīng)過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時(shí)間越短或溫度越低會(huì)使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。

晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。Z小限度控制風(fēng)速距離。

無氧烘箱、防氧化烤箱無氧烘箱，在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。

無氧烤箱，厭氧烘箱廣泛用于航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位做材料、零件、設(shè)備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗(yàn)。

無塵潔凈烤箱，精密潔凈烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門

光刻膠高溫固化烤箱，半導(dǎo)體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè)。應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)，經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器（100級(jí)）反復(fù)過濾，使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。無塵烤箱工作室為不銹鋼結(jié)構(gòu)。